参加者:MAEゼミ長、UENさん、MORさん、OKAさん、TAZさん、KIT(Y)さん、SATさん
講師:HUJ
学習内容:
青本 商標:18条~35条
・質疑応答又は全員で検討(随時)
講師コメント:
・1つのテーマから関連する事項や条文まで広がるいい議論ができたのではないでしょうか。お互いに議論する、質問しあうことで理解は格段に深くなります。青本の言葉を使うにはやはり「覚える」という部分も必要かもしれませんが、内容を把握していれば覚える労力もかなり減ると思います。
講師HUJ
参加者:MAEゼミ長、UENさん、MORさん、OKAさん、TAZさん、KIT(Y)さん、SATさん
講師:HUJ
学習内容:
青本 商標:7条~17条の2
商標:[商標法審査基準]7条~
・判例:eAccess事件
・質疑応答又は全員で検討(随時)
講師コメント:
・創作法である特許法等と競業秩序法である商標法とは、目的、条文構成、要件等が異なってきます。異なったところが大きなポイントになっている、異なっている理由に本質が隠れているように思います。違いを意識していきましょう。
・地域団体商標とは何か理解しましょう。条文を見てイメージがわくようになったらかなり理解が進んでいると思います。あの手この手でイメージ付けをしていきましょう。
講師HUJ
参加者:MAEゼミ長、UENさん、MORさん、SATさん、OKAさん、TAZさん、KIT(Y)さん
講師:KIT(A)
学習内容:
・青本 意匠: 2条,3条,8条,9条の2,10条,14条,関連・秘密意匠,26条 利用・抵触+[S46.12.22 大阪地裁判例 学習机事件],29条の2,
・意匠:[意匠法審査基準]P123~:「画像を含む意匠〔2条2項〕」,「補正〔60条の3〕」,「分割〔10条の2〕 変更〔13条〕 PCT出願の変更〔13条の2〕 補正後の新出願〔17条の3〕」,「パリ優先」「審査の進め方」,「特徴記載書〔施規6条〕」
・青本 商標:1条
・質疑応答又は全員で検討(随時)
講師コメント:
・意匠は条文が短いですが、二次試験に占める割合は特実や商標と同じです。意匠特有の制度について、意匠特有の問題を何と認識して(必要性)、許容性を踏まえどの様な制度設計をしているのかをしっかりと復習しておいてください。
講師KIT(A)
参加者:MAEゼミ長、UENさん、MORさん、SATさん、OKAさん、TAZさん、KIT(Y)さん
講師:KIT(A)
学習内容:
特許:青本 「PCT国内段階」184条の3~184条の20
意匠:[意匠法審査基準]P1~P122・・・「図面・願書〔6条〕」,「工業上利用〔3条1項柱書〕」,「新規性〔3条1項1・2号〕」,「類似〔3条1項3号〕」「創作非容易性〔3条2項〕」,「先願意匠の一部と同一又は類似の後願意匠の保護除外〔3条の2〕」,新規性喪失の例外〔4条〕,意匠登録を受けることができない意匠〔5条〕,一意匠一出願〔7条〕,先願〔9条〕,部分意匠 〔2条1項〕,組物〔8条〕,関連意匠〔10条〕
・質疑応答又は全員で検討(随時)
講師コメント:
・本日は、意匠と発明との一致点及び相違点を整理しました。意匠の二次試験では結局のところ、意匠とは何かを答えさせる問題が毎年の様に出ていますので、意匠法の保護対象をしっかりと理解し、二次試験では意匠が何かを理解している事が伝わる回答を心掛けましょう。
・部分意匠や組物の意匠等、意匠に特有の制度については、何が問題点(必要性)となっていて、何を制限し(許容性)、制度を設けているかについて、青本を熟読して理解を深めて下さい。
講師KIT(A)
参加者:MAEゼミ長、UENさん、MORさん、SATさん、OKAさん、TAZさん
講師:KIT(A)
学習内容:
・「特許法概説(第13版)」p606-701 「訂正」、「審判手続一般から」、「再審」、「特許争訟」、「特許刑事法」、「実用新案制度」、「制度の存続・保護対象」、「方法的記載」
・該当部分の青本チェック
・青本・・・2条の2, 6条の2,12条, 14条の2, 14条の3, 29条の2, 29条の3, 30条(特103条非準用),54条の2
・質疑応答又は全員で検討(随時)
講師コメント:
・補正と訂正について、ゼミで整理した内容を基に、一致点と相違点を自分でも整理し、論文でも書ける様にしっかりと復習をしておいて下さい。
・実用新案は二次試験で単独で出題される可能性は低いと思いますが、意匠等、他の法域と絡めた出題はされますので、しっかりと勉強して下さい。特に意匠と実案は共に物品に係る創作を保護するものですので、両者の一致点と相違点とを整理し、本試で出題されたとしても対応できる様に理解を深めて下さい。
講師KIT(A)